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J-GLOBAL ID:200903046276041350

記録層における光学的バンドギャップの調整方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 名古屋国際特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007271482
Publication number (International publication number):2009099228
Application date: Oct. 18, 2007
Publication date: May. 07, 2009
Summary:
【課題】容易に記録層における光学的バンドギャップを調整する方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】必須成分としてCxHy及びH2を、任意成分としてN2及び/又はNH3を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体1の記録層7、9における光学的バンドギャップの調整方法であって、前記混合ガスにおけるH2、及び/又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
必須成分としてCxHy(xは1〜5の自然数であり、yは2〜10の自然数)及びH2を、任意成分としてN2及び/又はNH3を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体の記録層における光学的バンドギャップの調整方法であって、 前記混合ガスにおけるH2、及び/又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。
IPC (4):
G11B 7/26 ,  G11B 7/244 ,  G11B 7/24 ,  B41M 5/26
FI (6):
G11B7/26 531 ,  G11B7/24 516 ,  G11B7/24 522A ,  G11B7/24 535E ,  G11B7/24 522C ,  B41M5/26 Y
F-Term (19):
2H111EA03 ,  2H111EA12 ,  2H111EA22 ,  2H111EA25 ,  2H111EA32 ,  2H111EA43 ,  2H111EA44 ,  2H111FA02 ,  2H111FA12 ,  2H111FA14 ,  2H111FB50 ,  2H111GA04 ,  5D029JA04 ,  5D029JB02 ,  5D029JC20 ,  5D029LB04 ,  5D121AA01 ,  5D121EE06 ,  5D121EE17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (7)
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