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J-GLOBAL ID：200903046289288118

垂直磁化膜およびその製造法ならびに 垂直磁気記録媒体

Inventor： 渡辺 雅人
Applicant, Patent owner： 財団法人電気磁気材料研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996175366
Publication number (International publication number)：1997320847
Application date： May. 31, 1996
Publication date： Dec. 12, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】大きな飽和磁化と高保磁力を持つ(FeaCo1-a)100-x-yPtxMy(0≦a≦0.4,30≦x≦55,0≦y≦15)合金垂直磁化膜および製造法ならびに垂直磁気記録媒体を提供する。【解決手段】基板温度が100〜1000°Cの単結晶基板上に、100Å以下の厚さの単体金属又は合金からなるシード層を成膜し、100〜1000°Cの基板温度で5μm以下の厚さの面心立方金属からなるバッファ層を成膜し、基板温度400〜700°Cで該バッファ層上に一般式(FeaCo1-a)100-x-yPtxMyで表わされ、副成分MはBe他から選択される1種又は2種以上の元素であり、その組成比aと原子比率x、yは0≦a≦0.4,30≦x≦55,0≦y≦15である組成と少量の不純物からなる合金層を積層してなり、飽和磁化が8kG以上、保磁力が500 Oe以上を有する。

Claim (excerpt)：

単結晶基板上に、5μm以下(0を含まず)の厚さの面心立方金属からなるバッファ層と、該バッファ層上に一般式(FeaCo1-a)100-xPtxで表わされ、組成比aと原子比率xは0≦a≦0.430≦x≦55である組成と少量の不純物からなる合金層を積層してなり、飽和磁化が8kG以上であり、保磁力が500 Oe以上を有することを特徴とする垂直磁化膜。

IPC (2)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/66

FI (2)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 磁気記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-252253   Applicant：ソニー株式会社