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J-GLOBAL ID：200903046297328080

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 戸石 好治 ,  宮 芳子 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001395887
Publication number (International publication number)：2003195505
Application date： Dec. 27, 2001
Publication date： Jul. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】一般式(I)および(II)で表される重合単位、または、一般式(I)、(II)および(III)で表される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶または難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含有するポジ型レジスト組成物。(R1、R2、R3およびR9は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、水酸基、炭素数1〜14のアルキル基、脂環式環またはラクトン環。nおよびlは、それぞれ独立に0〜4の整数。R4、R5は、それぞれ独立に水素または炭素数1〜4のアルキル基。R6とR7のいずれかまたは両方は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基。R8は、酸の存在下で解離する酸不安定基。)

Claim (excerpt)：

一般式(I)および(II)で表される重合単位、または、一般式(I)、(II)および(III)で表される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶または難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤並びに多官能エポキシ化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2、R3およびR9は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、水酸基、炭素数1〜14のアルキル基、脂環式環またはラクトン環を表す。該アルキル基は、ハロゲン、水酸基および脂環式環からなる群から選ばれた少なくとも1種の基で置換されていても良い。該脂環式環またはラクトン環は、それぞれ独立に、ハロゲン、水酸基およびアルキル基からなる群から選ばれた少なくとも1種の基で置換されていても良い。nおよびlは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す。R4、R5は、それぞれ独立に水素または炭素数1〜4のアルキル基を表す。R6とR7のいずれかまたは両方は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基である。R8は、酸の存在下で解離する酸不安定基を表す。)

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (36)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11P ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100BB17P ,  4J100BB17Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA28 ,  4J100DA62