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J-GLOBAL ID：200903046308556757

真空分析装置、質量分析装置および電子顕微鏡装置

Inventor： 小林 登代子 ,  小林 辰 ,  日下 貴生 ,  高田 一広 ,  饗場 利明
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000207134
Publication number (International publication number)：2002025497
Application date： Jul. 07, 2000
Publication date： Jan. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】真空分析系の一部である試料室内で、エネルギーを試料に与えることにより発生する荷電粒子またはエネルギーを分析する装置において、分析系内の物品表面上の付着物により主に発生する不都合を、高効率で、操作性良好に、物品による制限を受けること無く、抑制する。【解決手段】分析系内の1つ以上の物品の表面に光触媒層を形成し、光触媒層上の付着物を光分解するための光線を照射する。

Claim (excerpt)：

真空分析系の一部である試料室内で、エネルギーを試料に与えることにより発生する荷電粒子またはエネルギーを分析する装置において、該分析系内の1つ以上の物品の表面に、光触媒層が形成されており、該光触媒層上の付着物を光分解するための光線を照射する手段を含むことを特徴とする真空分析装置。

IPC (8)：

H01J 49/24 ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  G01N 27/62 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/26

FI (9)：

H01J 49/24 ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  G01N 27/62 G ,  G01N 27/62 L ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/20 G ,  H01J 37/26

F-Term (29)：

2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001AA09 ,  2G001BA07 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001EA04 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA10 ,  2G001GA12 ,  2G001GA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA12 ,  2G001JA14 ,  2G001RA05 ,  2G001RA20 ,  5C001AA01 ,  5C001AA07 ,  5C001BB07 ,  5C001CC01 ,  5C001CC04 ,  5C001CC05 ,  5C001DD01 ,  5C033KK01 ,  5C033KK02 ,  5C033SS01 ,  5C033SS02 ,  5C033UU03