微量流体処理システム

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：秋元輝雄
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997506906
Publication number (International publication number)：2002515820
Application date： Jul. 19, 1996
Publication date： May. 28, 2002
Summary：

【要約】ナノリットルからピコリットルの量の流体試料を、更なるオフチップ試料操作のために、微細組立チップの空間的に集中された環境から”オフチップ”の分析または収集デバイス(23)へ向けて効果的に移送させることを可能にする微量流体処理システム(10)が開示される。この流体処理システム(10)は、微小チップ本体、即ちシリカ基板、ポリマーまたは他の適切な非導電性材料、またはステンレススチール、貴金属、シリコンまたは他の適切な導電性または半導体材料内に提供された1以上のチャネル(12)の形態で組み立てられる。微小チップ流体処理システム(10)は、連続してまたは同時に前記試料のオフチップ分析または収集を行うために、1以上の前記チャネル(12)の端部に整合する1以上の出口(16)を有する。出口(16)は、例えば、質量分析器(23)に流体試料を移送させるためのエレクトロスプレイ・インターフェースとして構成される。

Claim (excerpt)：

1以上のチャネルが内部に集積的に形成された基板を備え、前記1以上のチャネルは、前記1以上のチャネル内を前記基板から外部の分析および/または収集システムに向けて通過する微少量の流体試料の移送に適用される1以上の出口に終結することを特徴とする微量流体処理システム。

IPC (5)：

B01J 4/00 101 , B01J 19/00 , G01N 27/62 , G01N 35/08 , G01N 37/00 101

FI (5)：

B01J 4/00 101 , B01J 19/00 Z , G01N 27/62 F , G01N 35/08 A , G01N 37/00 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

化学分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-232791 Applicant：株式会社日立製作所
特表平5-507793
特開平1-315940

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