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J-GLOBAL ID：200903046319386454

荷電粒子線転写方法

Inventor： 中筋 護
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994157345
Publication number (International publication number)：1996022949
Application date： Jul. 08, 1994
Publication date： Jan. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】 従来よりも高精度に転写できる荷電粒子線転写方法を提供する。【構成】 マスクの複数の小領域に設けられたパターンを試料の異なる被転写領域に順次転写する荷電粒子線転写方法において、実際の転写に先立って試料の少なくとも2つの被転写領域にパターンを転写したと仮定したときの各被転写領域のパターン像に生じる方位角方向の歪Δθの変化率(A1、A2の傾き)を検出し、この検出結果に基づいて方位角方向の歪Δθが減少するように試料に導かれるパターン像PT1と試料とを光軸の回りに相対回転させる。

Claim (excerpt)：

マスクの複数の小領域に設けられたパターンを試料の異なる被転写領域に順次転写する荷電粒子線転写方法において、実際の転写に先立って前記試料の少なくとも2つの被転写領域にパターンを転写したと仮定したときの各被転写領域のパターン像に生じる方位角方向の歪の変化率を検出し、前記歪の変化率の検出結果に基づいて、前記方位角方向の歪が減少するように前記試料に導かれるパターン像と前記試料とを光軸の回りに相対回転させて転写を行うことを特徴とする荷電粒子線転写方法。

FI (3)：

H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 B