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J-GLOBAL ID：200903046334884924

Mn酸化物を砥粒とする研磨剤の製造方法および半導体装置の製造方法

Inventor： 岸井 貞浩 ,  畑田 明良 ,  中村 亘 ,  有本 由弘 ,  鈴木 隣太郎 ,  植田 成生 ,  塙 健三
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  三井金属鉱業株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996351342
Publication number (International publication number)：1998060415
Application date： Dec. 27, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高純度のγMnO2 ,Mn2 O3 あるいはMn3 O4 よりなる砥粒を含む研磨剤を簡単に製造すると共に、使用済み研磨剤を再生して再利用する。【解決手段】 MnO2 ,Mn2 O3 あるいはMn3 O4 などのMn酸化物が酸に容易に溶解することを利用して、使用済み砥粒を酸で溶解してMn溶液を回収し、その溶液を電解酸化することにより、γMnO2 を得る。γMnO2 の塊を微粉砕することにより、あるいは焼成してMn2 O3 あるいはMn3 O4 に変換した後粉砕して研磨剤を再生・使用する。

Claim (excerpt)：

MnO2 を砥粒とする研磨剤の製造方法において、Mnイオンを含む電解質溶液を電気分解する工程と、前記電気分解の結果陽極に形成されたMnO2 の塊を粉砕し、MnO2 の粒子を研磨剤として形成する工程とを含むことを特徴とする方法。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 340 ,  H01L 21/304 321

FI (4)：

C09K 3/14 550 E ,  B24B 37/00 H ,  B24D 3/00 340 ,  H01L 21/304 321 P