Pat

J-GLOBAL ID：200903046360188073

温度制御装置

Inventor： 土屋 勝久 ,  光長 秀文 ,  鶴田 透 ,  宗村 浩
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社 ,  日本ユプロ株式会社
Agent (1)： 下田 容一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993126680
Publication number (International publication number)：1994337114
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被加熱体の給湯温度が設定温度を超えるオーバシュートが発生しても、加熱量を設定するゲインを変更してオーバシュートを防止し、迅速で安定した設定温度が得られる温度制御装置を提供する。【構成】 温度制御装置8は、ゲイン設定手段30、オーバシュート検出手段40、オーバシュート抑止手段50を備え、オーバシュート検出手段40が給湯温度(Th)センサ11から給湯温度Thのオーバシュートを検出すると、ゲイン設定手段30がオーバシュートの回数(N)に対応したゲイン(Ko)を発生して熱量を小さい値に制御し、オーバシュート抑止手段50は非常に小さい熱量を選択してオーバシュートを防止する。

Claim (excerpt)：

被加熱体の設定温度を出力する温度設定部と、前記被加熱体の温度を検出して検出温度を出力する温度検出部とを備え、前記設定温度と前記検出温度の偏差を予め設定された初期ゲインに基づき加熱量に変換し、前記被加熱体を加熱制御する温度制御装置において、前記被加熱体にオーバシュートが発生した場合、オーバシュート検出信号を出力するオーバシュート検出手段と、前記オーバシュート検出信号に基づいて前記初期ゲインより小さなゲインを設定し、前記オーバシュート解消後もこの小さなゲインを設定、保持するゲイン設定手段を設けたことを特徴とする温度制御装置。

IPC (4)：

F23N 1/08 101 ,  F23N 5/14 370 ,  F24H 1/10 302 ,  G05D 23/19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-138322
  
• 特開昭57-031722
  
• 特開昭63-083544