Pat

J-GLOBAL ID：200903046362661434

CVD原料気化装置

Inventor： 山口 太一 ,  青木 伸哉 ,  香川 昭 ,  河野 宰 ,  長屋 重夫 ,  井上 俊夫
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ ,  中部電力株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992178692
Publication number (International publication number)：1994024895
Application date： Jul. 06, 1992
Publication date： Feb. 01, 1994
Summary：

【要約】【構成】 複数種の金属有機化合物を溶媒に溶解した原料溶液12を収容する容器13と、原料溶液を加熱して気化させる加熱源を備えかつ複数種の金属化合物を含むガスを送り出す連通路17を有する気化器14と、容器と気化器とを接続する管路15に設けられたポンプ16とを具備したCVD原料気化装置11。【効果】 原料溶液をポンプによって、加熱された気化器に一定流量で送り出す構成としたことにより、常時一定組成の気化混合ガスを長時間安定的に供給可能であるので、高品質の材料を成膜することができる。

Claim (excerpt)：

複数種の金属有機化合物を溶媒に溶解した原料溶液を収容する容器と、該原料溶液を加熱して気化させる加熱源を備えかつ複数種の金属化合物を含むガスを送り出す反応チャンバ連通路を有する気化器と、該容器と気化器とを接続する管路に設けられたポンプとを具備したことを特徴とするCVD原料気化装置。

IPC (5)：

C30B 25/14 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C30B 29/22 501 ,  H01B 12/00 ZAA ,  H01B 13/00 565

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-298336
  
• 特開平1-132934