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J-GLOBAL ID：200903046388299539

アルカリ現像用レジスト

Inventor： 後河内 透 ,  木原 尚子 ,  浅川 鋼児 ,  信田 直美 ,  中瀬 真 ,  沖野 剛史
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996213571
Publication number (International publication number)：1997120162
Application date： Aug. 13, 1996
Publication date： May. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好なレジストパターンを形成することができるアルカリ現像用レジストを提供する。【解決手段】 25°Cの水溶液中でのpKaが7以上11以下である酸性置換基が導入された脂環式化合物を含有するアルカリ現像用レジストである。前記脂環式化合物は、ビニル化合物との共重合体として配合されることが好ましく、かかる共重合体の波長193nmの光に対する吸光度は1μm当たり3以下であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

25°Cの水溶液中でのpKaが7以上11以下の酸性置換基が導入された脂環式化合物を含有するアルカリ現像用レジスト。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-181150
  
• 放射線感光材料およびそれを用いるパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-053772   Applicant：富士通株式会社