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J-GLOBAL ID：200903046391410149

ヘアトリートメント製剤

Inventor： アンスマン,アヒム
Applicant, Patent owner： ヘンケル・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチエン
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997540467
Publication number (International publication number)：2000510133
Application date： May. 06, 1997
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：

【要約】本発明は、(a)糖界面活性剤1〜30重量%、(b)室温で液体のシリコーン化合物1〜10重量%、および(c)真珠光沢ワックス2重量%未満を含有し、100重量%とする残部は水および通常の添加剤から成る新規ヘアトリートメント製剤に関する。本発明の製剤は、曇りに対して安定で、改善された真珠光沢を示す。

Claim (excerpt)：

(a)糖界面活性剤1〜30重量%、 (b)室温で液体のシリコーン化合物1〜10重量%、および (c)真珠光沢ワックス2重量%未満を含有し、100重量%とする残部は水および通常の添加剤から成るヘアトリートメント製剤。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 化粧用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-218680   Applicant：ロレアル
• 特開平4-001120
  
• 特開平4-089494
  
• 化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-228276   Applicant：ライオン株式会社
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-191531   Applicant：花王株式会社
• ヘアコンディショナー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-269546   Applicant：花王株式会社
• 特開平4-001120
  
• 特開平4-089494
  
• 特表平6-502418