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J-GLOBAL ID：200903046391880838

ネガ型感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法

Inventor： 小柳 敬夫 ,  北折 智之 ,  福永 誠規 ,  長澤 孝太郎
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993256336
Publication number (International publication number)：1995092676
Application date： Sep. 21, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】ビニルフェノール骨格を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂及び、例えば臭素化された2,4,6-トリメチル-s-トリアジンからなる、感放射線性樹脂組成物、ならびにこの3成分を溶媒に溶解し、クロム蒸着板のような基板上に塗布、乾燥させ、電子線を照射、さらに加熱増感処理を施した後、アルカリ水溶液で現像することよりなる基板上に樹脂パターンを得る方法。【効果】本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物は、電子線を照射した場合、感度、解像性が極めて高く、得られた樹脂パターンは形状も優れているため、半導体集積回路等の製造に極めて有用である。

Claim (excerpt)：

アルカリ水溶液可溶性樹脂、酸触媒により架橋反応を起こす架橋剤及び光酸発生剤からなるネガ型感放射線性樹脂組成物において、(1)アルカリ水溶液可溶性樹脂がビニルフェノール骨格を有する樹脂であり、(2)架橋剤がアルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂であり、(3)光酸発生剤が下記式(1)【化1】(式中、Xは水素原子あるいは臭素原子を示す。)で示される化合物であることを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物

IPC (5)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 568 ,  H01L 21/30 569 F