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J-GLOBAL ID：200903046391883250
新規スチリル系高分子化合物、その製造方法および用途
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997119192
Publication number (International publication number)：1998310635
Application date： May. 09, 1997
Publication date： Nov. 24, 1998
Summary：
【要約】【課題】 電子写真感光体や有機エレクトロルミネセンス素子に利用可能な新規スチリル系高分子化合物を提供すること。【解決手段】 下記一般式[I]で表わされるスチリル系高分子化合物、その製造方法およびその感光体あるいはエレクトロルミネセンス素子への応用;【化1】(式中、Ar1、Ar2およびAr4はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリーレン基;Ar5は置換基を有していてもよい、アリーレン基または2価の縮合多環式基;Ar3およびAr6はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表す;mは0、1、2または3を表す;nは自然数を表す)。
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表わされるスチリル系高分子化合物;【化1】(式中、Ar1、Ar2およびAr4はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリーレン基;Ar5は置換基を有していてもよい、アリーレン基または2価の縮合多環式基;Ar3およびAr6はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表す;mは0、1、2または3を表す;nは自然数を表す)。
IPC (4)：
C08G 61/12
, C09K 11/06
, G03G 5/06 313
, H05B 33/22
C08G 61/12
, C09K 11/06 Z
, G03G 5/06 313
, H05B 33/22
