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J-GLOBAL ID：200903046414270480

ウエハ表面検査方法および検査装置

Inventor： 八掛 保夫 ,  大川 隆志 ,  水谷 紀彦 ,  飯塚 繁晴
Applicant, Patent owner： 日立電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996112073
Publication number (International publication number)：1997304289
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】付着異物とCOPとを検出することができるウエハ表面検査方法およびウエハ表面検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】ウエハの表面を基準とした仰角が30°以下の角度の低角度受光系と、これよりも大きな仰角の高角度受光系を設け、ウエハをレーザ光により走査して、低角度受光系と高角度受光がレーザ光の散乱光を受光して走査に対応して異物検出を行い、同じ走査位置において高角度受光系でのみ検出されたものをウエハの欠陥の検出とし、低角度受光系あるいは低角度受光系と高角度受光でともに検出されたものを付着異物の検出とするものである。

Claim (excerpt)：

ウエハの表面を基準とした仰角が30°以下の角度をなす低角度受光系と、これよりも大きな仰角の高角度受光系とを有し、前記ウエハをレーザ光により走査して、前記低角度受光系と前記高角度受光が前記レーザ光の散乱光を受光して前記走査に対応して異物検出を行い、同じ走査位置において前記高角度受光系でのみ検出されたものを前記ウエハの欠陥の検出とし、前記低角度受光系で検出されたものを付着異物の検出とするウエハ表面検査方法。

FI (2)：

G01N 21/88 E ,  G01N 21/88 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-143831
  
• 特開昭63-298035