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J-GLOBAL ID：200903046419608403

ビーム加工装置、ビーム観察装置およびビームの焦点調整方法

Inventor： 増澤 恒明 ,  吉田 善一 ,  池田 博通 ,  小口 京吾 ,  山岸 光 ,  若林 優治 ,  新井 亮一 ,  小林 耕治 ,  長洲 慶典
Applicant, Patent owner： 株式会社平出精密 ,  学校法人 東洋大学 ,  長野県
Agent (1)： アイアット国際特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007324147
Publication number (International publication number)：2009142871
Application date： Dec. 17, 2007
Publication date： Jul. 02, 2009
Summary：

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲でかつ適切に加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。【解決手段】ビーム加工装置は、ワークの加工を行うためのビームを出射するビーム出射源3と、ビーム出射源3から出射されたビームが通過するビーム通過路8を有する真空チャンバー4と、ビーム通過路8に連通しビーム通過路8を通過したビームが通過する通過空間20およびワークに向けてビームを出射する出射孔17aを有する局所真空チャンバー9と、ワークに照射されるビームの焦点を調整するために出射孔17aの下方に配置される被照射部材35を有する焦点調整手段7とを備えている。このビーム加工装置1は、ビームを用いて真空チャンバー4および局所真空チャンバー9の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワークの加工を行う。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

加工対象物の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源と、上記ビーム出射源から出射された上記ビームが通過するビーム通過路を有し上記ビーム出射源が取り付けられる真空チャンバーと、上記ビーム通過路に連通し上記ビーム通過路を通過した上記ビームが通過する通過空間および上記加工対象物に向けて上記ビームを出射するための出射孔を有する局所真空チャンバーと、上記加工対象物に照射される上記ビームの焦点を調整するために、上記出射孔から出射される上記ビームの出射方向における上記出射孔の外側に配置される被照射部材を有する焦点調整手段とを備え、 上記真空チャンバーおよび上記局所真空チャンバーの外部の大気圧中に少なくとも一部が配置される上記加工対象物の加工を上記ビームを用いて行うことを特徴とするビーム加工装置。

IPC (6)：

B23K 15/00 ,  H01J 37/30 ,  H01J 37/301 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/31 ,  H01J 37/04

FI (8)：

B23K15/00 504C ,  H01J37/30 Z ,  H01J37/301 ,  H01J37/18 ,  H01J37/31 ,  H01J37/04 A ,  B23K15/00 508 ,  B23K15/00 504D

F-Term (13)：

4E066BA03 ,  4E066BA06 ,  4E066BA13 ,  4E066BB03 ,  4E066BC04 ,  4E066BE02 ,  4E066BE05 ,  5C030AA10 ,  5C030AB04 ,  5C033KK09 ,  5C034AA03 ,  5C034AA04 ,  5C034AB09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 集束イオンビーム加工方法および集束イオンビーム加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-209997   Applicant：野口裕之, 村川正夫
• 電子ビーム加工機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-335552   Applicant：アイシン・エィ・ダブリュ株式会社, 三菱電機株式会社
• 集束イオンビーム加工観察装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-315916   Applicant：株式会社日立製作所