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J-GLOBAL ID：200903046422561442

集束イオンビーム質量分析装置および分析方法

Inventor： 東 淳三 ,  嶋瀬 朗 ,  折付 良二 ,  小池 英巳 ,  野村 節生
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999362213
Publication number (International publication number)：2001176441
Application date： Dec. 21, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】微細に集束したイオンビームを用いた2次イオン質量分析装置に関し、低いイオンビーム電流で分析を行う場合、放出される2次イオンも少なく、感度が低い問題があった。【解決手段】2次イオン質量分析計10と対向する位置に反発電極11を設け、逆方向に放出された2次イオンの軌道を2次イオン質量分析計10側にすることで感度の向上が図れる。

Claim (excerpt)：

イオンビームを発生するイオン源とイオンビームを集束、偏向するイオンビーム光学系と、被分析物である試料を搭載するステージと、イオンビームの照射により放出された2次イオンの質量を分析する手段を設けた集束イオンビーム質量分析装置において、2次イオン質量分析計と対向する側に2次イオンを反発せしめる電極を設けたことを特徴とする集束イオンビーム質量分析装置。

IPC (3)：

H01J 37/252 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/244

FI (3)：

H01J 37/252 B ,  H01J 37/20 A ,  H01J 37/244

F-Term (6)：

5C001AA01 ,  5C001CC05 ,  5C033NN10 ,  5C033NP08 ,  5C033QQ05 ,  5C033QQ07