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J-GLOBAL ID:200903046443711827

透明導電膜およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 土橋 皓
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997348162
Publication number (International publication number):1999170421
Application date: Dec. 17, 1997
Publication date: Jun. 29, 1999
Summary:
【要約】【課題】 微細なパターンを形成した金属層を有して高い透明性と導電性とを兼ね備えた透明導電膜を複雑な工程を必要とせず容易で安価に製造ができるようにした透明導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 無電解メッキ触媒を含有する感光性材料のフォトマスクを介した露光により所定のパターンに形成された皮膜と、この皮膜上に無電解メッキにより成膜されたパターン状金属層とを有する透明導電膜を、透明基体の表面上に無電解メッキ触媒を含有する感光材料を塗布し、乾燥し、フォトマスクを介して露光を行い、現像してパターン化された皮膜を形成し、ついで、無電解メッキ処理を施すことによって成膜されたパターン状金属層を形成させるように構成する。
Claim (excerpt):
無電解メッキ触媒を含有する感光性材料のフォトマスクを介した露光により所定のパターンに形成された皮膜と、この皮膜上に無電解メッキにより成膜されたパターン状金属層とを有することを特徴とする透明導電膜。
IPC (7):
B32B 7/02 104 ,  B01J 27/13 ,  B01J 31/22 ,  B32B 15/08 ,  C08F 2/46 ,  H01B 5/14 ,  H05K 9/00
FI (7):
B32B 7/02 104 ,  B01J 27/13 M ,  B01J 31/22 M ,  B32B 15/08 E ,  C08F 2/46 ,  H01B 5/14 A ,  H05K 9/00 V

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