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J-GLOBAL ID：200903046456141582

新規な9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法

Inventor： 伊藤 浅夫 ,  久保 紳二 ,  伊藤 睦子 ,  菊地 一徳
Applicant, Patent owner： 三協化学株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993023168
Publication number (International publication number)：1994211757
Application date： Jan. 19, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 電子写真感光体の電荷輸送層に用いられる有機光導電材料として有用な新規9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体及びその製造方法を提供すること。【構成】 本発明は、次の一般式(1)で表される9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体及びその製造方法である。式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 はH、アルキル、アルコキシ、ハロゲン。但し、R5 、R6 、R7 、R8 は同時にHであってはならない。【化1】

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される9,10-ビス(N,N-ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体。【化1】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 およびR8 は同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。但し、R5 、R6 、R7 およびR8 は同時に水素原子であってはならない。

IPC (7)：

C07C211/61 ,  C07C209/10 ,  C07C209/52 ,  C07C213/02 ,  C07C217/90 ,  C07C251/24 ,  G03G 5/06 314