荷電粒子ビーム装置および集束イオンビーム装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000310026
Publication number (International publication number)：2002117796
Application date： Oct. 11, 2000
Publication date： Apr. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】静電偏向電源に乗っているノイズ成分によるイオンビームへの影響を軽減して、性能のよい荷電粒子ビーム装置およびFIB装置を提供すること。【解決手段】静電偏向器を多段に分割して、走査倍率に応じて印加する静電偏向器の実効の面積を切換えることによって、偏向感度(偏向の変移距離/偏向電圧)を変えて、ノイズ成分による影響を軽減する。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームを発生し取り出す荷電粒子源と、発生し取り出した荷電粒子ビームにエネルギーを与える加速手段と、加速された荷電粒子ビームを集束して試料上に照射するレンズと、荷電粒子ビームを前記試料上で走査するための静電偏向器とを備える荷電粒子ビーム装置において、前記静電偏向器は、荷電粒子ビームの軸に沿って複数段配置され、前記静電偏向器のうちの少なくとも1段を選択する選択手段と、前記選択された静電偏向器に所定の電圧を印加する電源手段とを備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3)：

H01J 37/147 , H01J 37/30 , H01L 21/027

FI (3)：

H01J 37/147 D , H01J 37/30 A , H01L 21/30 541 D

F-Term (3)：

5C034AB03 , 5F056CB11 , 5F056CC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-298171 Applicant：株式会社日立製作所
荷電粒子線装置のビームブランキング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-044572 Applicant：日本電子株式会社
集束イオンビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-001825 Applicant：日本電子株式会社

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