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J-GLOBAL ID:200903046551090898
ガラス回路基板
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山下 穣平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996284073
Publication number (International publication number):1998130856
Application date: Oct. 25, 1996
Publication date: May. 19, 1998
Summary:
【要約】【課題】 ガラス表面に特殊な下引き層を形成せずに、しかも、ガラス表面の平滑さを損なわず、さらには、外部からの熱的影響に対しても密着性の劣化が少ない、湿式めっきによる配線を形成可能なガラス回路基板を実現する。【解決手段】 ガラス基板1上に形成された金属Pdからなる触媒核層2と、前記触媒核層2上に形成されたアモルファスPd-Pめっき層3と、を有することを特徴とするガラス回路基板。また、前記アモルファスPd-Pめっき層3の膜厚は、0.015〜0.500μmであることを特徴とする。また、前記アモルファスPd-Pめっき層3は、リンの含有量が3.0〜10.0(wt%)であることを特徴とするガラス回路基板。
Claim (excerpt):
ガラス基板上に形成された金属Pdからなる触媒核層と、前記触媒核層上に形成されたアモルファスPd-Pめっき層と、を有することを特徴とするガラス回路基板。
IPC (3):
C23C 18/52
, C23C 18/48
, H01B 1/00
FI (3):
C23C 18/52 B
, C23C 18/48
, H01B 1/00
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