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J-GLOBAL ID：200903046571201459
レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992108821
Publication number (International publication number)：1993281729
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲンで置換されたアルコキシ基を有する芳香族化合物及びハロゲンで置換されたアルキル基を有する芳香族化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲンで置換されたアルコキシ基を有する芳香族化合物及びハロゲンで置換されたアルキル基を有する芳香族化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/029
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
Cited by examiner (7)
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