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J-GLOBAL ID：200903046586464251

表面プラズモン共鳴法用センサーチップ

Inventor： 鈴木 孝治
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団 ,  財団法人神奈川科学技術アカデミー
Agent (1)： 谷川 英次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001358569
Publication number (International publication number)：2003156434
Application date： Nov. 22, 2001
Publication date： May. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】 自己組織化膜を構成するチオール分子として、カルボキシル基やアミノ基を有するチオール分子等を用いた自己組織化膜を金属膜上に形成した表面プラズモン共鳴(SPR)法用センサーチップであって、非特異吸着が少ないSPR法用センサーチップを提供すること。【解決手段】 表面プラズモン共鳴法用センサーチップの金属膜上に形成される自己組織化膜を、(i)エチレングリコール単位を含み、カルボキシル基又はアミノ基を有さないチオール(I)と、(ii)カルボキシル基又はアミノ基を有するチオール(II)とで構成し、上記チオール(I)と上記チオール(II)の合計に占める上記チオール(II)の割合が1〜15mol%である、表面プラズモン共鳴法用センサーチップを提供した。

Claim (excerpt)：

表面プラズモン共鳴法用センサーチップの金属膜上に形成される自己組織化膜を、(i)エチレングリコール単位を含み、カルボキシル基又はアミノ基を有さないチオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(I)と、(ii)カルボキシル基又はアミノ基を有するチオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)とで構成し、上記(i)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(I)と上記(ii)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)の合計に占める上記(ii)チオール、スルフィド及び/又はジスルフィド(II)の割合が1〜15mol%である、表面プラズモン共鳴法用センサーチップ。

IPC (3)：

G01N 21/27 ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/566

FI (3)：

G01N 21/27 C ,  G01N 33/543 595 ,  G01N 33/566

F-Term (6)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD01 ,  2G059EE02 ,  2G059FF04