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J-GLOBAL ID：200903046595158384

Fe-Rh磁性薄膜及びその作製方法

Inventor： 吉村 文一 ,  大谷 佳光 ,  畠山 巌
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 秋田 収喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994024101
Publication number (International publication number)：1995235420
Application date： Feb. 22, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 薄膜中の応力を緩和して、4000Å以上の厚さの膜形成を可能とし、バルク特性とほぼ同等の急峻な磁化遷移を示すFe-Rh規則磁性薄膜の作製を可能にする。【構成】 基板1上にFexRh(1-x)なる組成の磁性薄膜層2と、圧縮応力を発生する融点が1000°C以上の非磁性薄膜3を交互に少なくとも4層以上を積層する。ただし、0.45≦X≦0.55である。

Claim (excerpt)：

基板上にFexRh(1-x)(0.45≦X≦0.55)なる組成の磁性薄膜層と、圧縮応力を発生する融点が1000°C以上の非磁性薄膜層を交互に少なくとも4層以上を積層したことを特徴とするFe-Rh磁性薄膜。

IPC (3)：

H01F 10/14 ,  C23C 14/06 ,  H01F 41/18