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J-GLOBAL ID：200903046597694836

合成ガスの製造用触媒及び合成ガスの製造方法

Inventor： 早川 孝 ,  竹平 勝臣 ,  鈴木 邦夫 ,  清水 政男 ,  針原 英明 ,  アンフィン ジェルムンド アンデルセン
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995226915
Publication number (International publication number)：1997071401
Application date： Sep. 05, 1995
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 低級炭化水素の酸化反応による合成ガスの製造用触媒において、炭素析出量の少ない触媒を提供するとともに、それを用いた合成ガスの製造方法を提供する。【解決手段】 低級飽和炭化水素の酸化反応による合成ガスの製造方法において、アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、かつ該アルカリ土類金属とチタンはぺロブスカイト型酸化物を形成している複合金属酸化物からなる触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、かつ該アルカリ土類金属とチタンはぺロブスカイト型酸化物を形成している複合金属酸化物からなることを特徴とする低級飽和炭化水素の酸化反応による合成ガス製造用触媒。

Claim (excerpt)：

低級飽和炭化水素の酸化反応による合成ガスの製造方法において、アルカリ土類金属とチタンとニッケルを含有し、アルカリ土類金属とチタンとの原子比が実質的に1/1であり、かつ該アルカリ土類金属とチタンはペロブスカイト型酸化物を形成している複合金属酸化物からなる触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。

IPC (2)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/78

FI (2)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/78 M