Pat
J-GLOBAL ID:200903046599615453

強磁性スピントンネル効果素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997023254
Publication number (International publication number):1998209525
Application date: Jan. 21, 1997
Publication date: Aug. 07, 1998
Summary:
【要約】【課題】強磁性スピントンネル効果素子の素子安定性を向上させること。【解決手段】第1強磁性体12と第2強磁性体14とを絶縁層13を介して対向させ、第1強磁性体12と第2強磁性体14との間の磁化方向の関係によって絶縁層13を介して流れるトンネル電流が変化する強磁性スピントンネル効果素子において、絶縁層13を低分子量の有機分子材料とした。これにより従来の強磁性スピントンネル効果素子よりも素子安定性が向上した。
Claim (excerpt):
第1強磁性体と第2強磁性体とを絶縁層を介して対向させ、前記第1強磁性体と前記第2強磁性体との間の磁化方向の関係によって前記絶縁層を介して流れるトンネル電流が変化する強磁性スピントンネル効果を用いた素子において、前記絶縁層を有機材料としたことを特徴とする強磁性スピントンネル効果素子。
IPC (4):
H01L 43/08 ,  G01R 33/06 ,  G11B 5/39 ,  G11C 11/14
FI (4):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  G11C 11/14 Z ,  G01R 33/06 Z

Return to Previous Page