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J-GLOBAL ID：200903046623640324
試料処理装置および試料処理方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993018419
Publication number (International publication number)：1994232238
Application date： Feb. 05, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：
【要約】【目的】 CVD、MBE、スパッタ等の各種のプロセス装置や、透過電子顕微鏡、2次イオン質量分析装置、光電子分光装置等の各種の評価装置を初め、各種処理装置間で試料を環境制御しながら搬送し、例えば結晶構造、元素組成、結合状態等を、作製直後の状態を保ったまま、或いは変化を動的に処理する。【構成】 トランスファロッド9の先端に着脱可能な試料ホルダ本体1を格納し、成膜装置と評価装置間を真空状態あるいはガスパージ状態で試料温度を制御しながら搬送するためのトランスファチャンバ23、各種成膜装置および薄膜装置との連結部、試料加熱および試料傾斜機構、バッテリー式可搬型イオンポンプ24等から構成される。【効果】 各種のプロセス装置および評価装置にフレキシブルに連結可能なので、Si-ULSIを始めとする製品デバイスの作製プロセスラインにおけるプロセス条件のオンライン検査に用いることができる。また、環境制御を行ないながらの試料搬送装置としても単独に使用できる。
Claim (excerpt)：
環境制御手段付き搬送装置により、外部環境と遮断された状態で少なくとも連続的に環境制御を行ないながら試料を処理装置間で搬送する工程、該処理装置において処理する工程と、該搬送装置と処理装置を着脱する工程から成ることを特徴とした試料処理方法。
IPC (3)：
H01L 21/68
, H01L 21/02
, H01L 21/66
