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J-GLOBAL ID:200903046628937732

カラーフィルタの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993002842
Publication number (International publication number):1994208018
Application date: Jan. 11, 1993
Publication date: Jul. 26, 1994
Summary:
【要約】【目的】 ブラックマトリクスの幅を均一にでき、しかも遮光性に制限を生じない電気抵抗の低い材料をブラックマトリクスに使うことができるようにする。【構成】 ガラス基板1の上にブラックマトリクス2を形成し、しかる後に各色のフィルタ部5、6、7を形成する。この形成の際、各色のフィルタ部5、6、7を、その端がブラックマトリクス2の上に位置するように行うので、各色のフィルタ部5、6、7の位置合わせが比較的精度よくなされ、その結果としてブラックマトリクス2の幅が均一となる。また、ITO電極3を間にして、ブラックマトリクス2と各色のフィルタ部5、6、7とが形成され、ブラックマトリクス2と各色のフィルタ部5、6、7とが直接に重なることがないので、これによりブラックマトリクス2に電気抵抗の低い金属や樹脂を使っても、膜質の低下がなくなる。
Claim (excerpt):
ガラス基板上に赤色用フィルタ部、緑色用フィルタ部および青色用フィルタ部が所定のパターンに形成され、フィルタ部の非形成部分にブラックマトリクスが形成されているカラーフィルタの製造方法において、ガラス基板上に、電気抵抗が低く、かつ遮光率が高い顔料を分散させた樹脂または金属からなるブラックマトリクスを所定パターンに形成する工程と、該ブラックマトリクスの上の全面に透明電極を形成する工程と、該透明電極の上にレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に赤色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に緑色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、該レジスト膜の一部を除去し、露出した透明電極部分の上に青色用フィルタ部を、その端が該ブラックマトリクスの上に位置する状態に形成する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
IPC (2):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭61-279803
  • 特開昭63-241522

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