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J-GLOBAL ID：200903046638619380

毛髪化粧料

Inventor：
木下 耕一

About 木下 耕一

, 
橋本 克夫

About 橋本 克夫


Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005356666
Publication number (International publication number)：2007161605
Application date： Dec. 09, 2005
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：
【課題】ダメージを受けた毛髪(染毛剤、パーマ剤などの化学的な損傷、摩擦などの物理的な損傷を受けた毛髪)と、ダメージを受けていない毛髪の両方に対して、使用し始め(塗布中)から使用後(使用翌日)までのなめらかさ、指どおりのよさ、サラサラ感、うるおい感、などの評価項目すべてを満足させる、優れたヘアコンディショニング効果を発揮する毛髪化粧料を提供する。【解決手段】特定のヒドロキシエーテルアミンと、高級アルコール又は高級脂肪酸と、低粘度のシリコーンまたはシリコーン誘導体と、特定の有機酸・無機酸を配合し、pHを特定領域とする。
Claim (excerpt)：
下記成分(A)〜(E)を含有し、組成物のpHが2.0以上7.0以下であることを特徴とする毛髪化粧料。 (A)下記一般式(I)で示されるヒドロキシエーテルアミン化合物を0.01〜10.0質量%。
IPC (10)：
A61K 8/41 ,  A61K 8/34 ,  A61K 8/36 ,  A61K 8/19 ,  A61K 8/891 ,  A61K 8/44 ,  A61K 8/49 ,  A61K 8/365 ,  A61Q 5/00 ,  A61Q 5/12
FI (10)：
A61K8/41 ,  A61K8/34 ,  A61K8/36 ,  A61K8/19 ,  A61K8/891 ,  A61K8/44 ,  A61K8/49 ,  A61K8/365 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/12
F-Term (68)：
4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AA162 ,  4C083AB011 ,  4C083AB012 ,  4C083AB032 ,  4C083AB412 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC151 ,  4C083AC152 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC231 ,  4C083AC241 ,  4C083AC242 ,  4C083AC291 ,  4C083AC292 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC532 ,  4C083AC541 ,  4C083AC542 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC611 ,  4C083AC612 ,  4C083AC662 ,  4C083AC682 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AC892 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD282 ,  4C083AD412 ,  4C083AD532 ,  4C083AD572 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD08 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 毛髪用組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-153506   Applicant：東邦化学工業株式会社
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-315914   Applicant：株式会社資生堂
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-225917   Applicant：花王株式会社
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Cited by examiner (12)
  • 毛髪用組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-153506   Applicant：東邦化学工業株式会社
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-280371   Applicant：花王株式会社
  • コンディショニング剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-228723   Applicant：花王株式会社
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