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J-GLOBAL ID：200903046642915768

光反射性基板の製造方法および液晶表示装置

Inventor： 山本 智彦 ,  島田 康憲
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992117574
Publication number (International publication number)：1993313160
Application date： May. 11, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 良好な光反射特性が再現性良く得られ、しかも液晶表示装置の各製造工程における耐久性が優れた光反射性基板を得ることができる光反射性基板の製造方法および良好な光反射特性を有する液晶表示装置を提供する。【構成】 透明絶縁性基板11の上にAlまたはTaを膜厚2000Å〜5000Åの金属薄膜12に形成し、フッ化水素酸水溶液とエチレングリコールとの混合した化成溶液に浸漬した後、所定条件の下で陽極酸化することによって金属酸化膜13を形成する。次に、超音波を用いて金属酸化膜13を除去し、さらにポリイミドを膜厚500Åに塗布し焼成して、配向膜15を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に、光反射性の金属薄膜を形成した後、(a)前記金属薄膜の表面をフッ化水素酸を含む化成溶液で陽極酸化することによって金属酸化膜を形成した後、超音波を用いて前記金属酸化膜を除去すること、または(b)前記金属薄膜の表面をフッ化水素酸を含む化成溶液で陽極酸化することによって金属酸化膜を形成しながら、超音波を用いて前記金属酸化膜を除去することを特徴とする光反射性基板の製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 ,  G09F 9/30 310