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J-GLOBAL ID：200903046664852832
パターン欠陥検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993217674
Publication number (International publication number)：1995072089
Application date： Sep. 01, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ホトマスクの実パターンを設計情報と比較してホトマスクの欠陥を検査するに際し、実パターンを撮像した画像情報を用いて正確な欠陥検査を行う。【構成】 設計情報に基づいて設計二値画像を作成して設計画像情報を出力する設計画像情報発生手段31と、被検査物19に形成された実パターンを撮像して被検査画像情報を出力する被検査画像情報発生手段21と、被検査画像情報と設計画像情報との比較結果に基づいて欠陥を検出する検査手段81と、を具備するパターン欠陥検査装置において、前記設計情報の座標値を変更した設計情報に基づいて第2の設計二値画像を作成して第2の設計画像情報を出力する第2設計画像情報発生手段41を具備し、前記検査手段81は、被検査画像情報と設計画像情報との比較結果と、被検査画像情報と第2の設計画像情報との比較結果とに基づいて、実パターンの欠陥を検出する装置とする。
Claim (excerpt)：
参照パターンの位置を示す座標値を有する設計情報に基づいて第1の設計二値画像を作成し、該第1の設計二値画像を表す第1の設計画像情報を出力する第1設計画像情報発生手段と、前記設計情報に基づいて前記被検査物に形成された実パターンを撮像し、該実パターンに対応する被検査画像情報を出力する被検査画像情報発生手段と、前記被検査画像情報と前記第1の設計画像情報との比較結果に基づいて、前記実パターンの欠陥を検出する検査手段と、を具備するパターン欠陥検査装置において、画像を形成する画素の大きさに基づき前記設計情報の前記座標値を変更すると共に、該座標値を変更した設計情報に基づいて第2の設計二値画像を作成し、該第2の設計二値画像を表す第2の設計画像情報を出力する第2設計画像情報発生手段をさらに具備し、前記検査手段は、前記被検査画像情報と前記第1の設計画像情報との比較結果と、前記被検査画像情報と前記第2の設計画像情報との比較結果とに基づいて、前記実パターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
