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J-GLOBAL ID：200903046668091550

不活性ガスの精製方法および装置

Inventor： 大塚 健二 ,  武政 登
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994337274
Publication number (International publication number)：1996173748
Application date： Dec. 26, 1994
Publication date： Jul. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 窒素、アルゴン、へリウムなどの不活性ガスを集積度の高い半導体製造工程などに適合するよう高純度に精製する手段を開発する。 【構成】 精製筒の入口側から順に二酸化炭素の除去能の高い吸着剤、酸素の捕捉能の高い触媒、水分の除去能の大きい吸着剤を充填し、これに精製の対象となる不活性ガスを流して順次接触させる。

Claim (excerpt)：

不純物として?@二酸化炭素、および?A酸素、一酸化炭素、水素、水から選ばれる少なくとも1種を含む不活性ガスの精製方法において、該不活性ガスを?@二酸化炭素の除去能の高い吸着剤A、?A酸素の捕捉能の高い触媒、?B水の除去能の高い吸着剤Bと順次接触せしめることを特徴とする不活性ガスの精製方法。

IPC (6)：

B01D 53/04 ,  B01D 53/86 ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/18 ,  B01J 23/755 ,  C01B 23/00

FI (2)：

B01D 53/36 Z ,  B01J 23/74 321 M