Pat

J-GLOBAL ID：200903046694721562

パターン位置測定方法及び装置

Inventor： 岩崎 雅弥
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 飯塚 雄二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996049561
Publication number (International publication number)：1997089520
Application date： Feb. 13, 1996
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：

【要約】【目的】基板上に形成されたパターンの位置計測精度を向上させること。【構成】基準となる基板の撓み形状に基づいてパターンの位置に対する第1の補正値を理論値として求める。次に、各被測定基板(10)毎にその厚さを実測し、基準基板の厚さに対する誤差を求める。この厚み誤差に基づいて第1の補正値を修正して第2の補正値を算出する。そして、この第2の補正値に基づいて、被測定基板(10)のパターン計測位置を補正する。

Claim (excerpt)：

基板上に形成されたパターンの位置を測定するパターン位置測定方法において、所定の基準基板の撓みによるパターンの変位量を第1の補正値として求める第1工程と;前記基準基板に対する被測定基板の厚さ誤差量を計測する第2工程と;前記厚さ誤差量に基づいて、前記第1の補正値を修正することによって第2の補正値を求める第3工程と;前記被測定基板の上に形成されたパターンの位置を測定する第4工程と;前記第2の補正値に基づいて、前記測定されたパターンの位置を補正する第5工程とを含むことを特徴とするパターン位置測定方法。

IPC (4)：

G01B 11/00 ,  G01B 21/00 ,  G01B 21/20 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G01B 11/00 A ,  G01B 21/00 D ,  G01B 21/20 A ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 A