Pat

J-GLOBAL ID：200903046698434797

耐被毒脱臭光触媒

Inventor： 佐倉 真 ,  ▲奥▼平 修二
Applicant, Patent owner： 日揮ユニバーサル株式会社
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993322735
Publication number (International publication number)：1995171403
Application date： Dec. 21, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 担体、シリカライトからなる吸着層、およびさらにその上に担持された光によって励起される光触媒層よりなる耐被毒脱臭光触媒において、シリカライトのアルカリ金属の含有量をその酸化物として0.5重量%以下とする。脱臭処理は通常運転中は吸着により行い、定期的もしくは不定期的に光を照射して吸着した悪臭物質を光分解することにより達成される。この触媒を悪臭物質の脱臭処理に使用した後に200°C以上の温度で焼成して再生する。【効果】 この触媒は従来の触媒に比べて処理ガス中の水分の影響を受けにくく活性が高く、しかも硫黄化合物に対する耐被毒性が格段に増大している。

Claim (excerpt)：

担体、その上に形成されたアルカリ金属の含有量がその酸化物として0.5重量%以下であるゼオライトからなる吸着層、およびさらにその上に担持された光によって励起される光触媒層よりなることを特徴とする耐被毒脱臭光触媒。

IPC (6)：

B01J 29/90 ZAB ,  A61L 9/01 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 20/18 ,  B01J 29/06 ZAB ,  B01J 35/02