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J-GLOBAL ID：200903046698621805

真空吸着装置

Inventor： 小俣 冨士夫 ,  宇根 篤▲暢▼
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992104097
Publication number (International publication number)：1993283511
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ等の吸着物を変形させずに保持する。【構成】 基体となる平板10の面上に、真空吸引口をもつ微小先端部12にウエハ20に比べて極めて薄い真空封止部材としてポリミイド膜13を固着した円環(真空固定部)11を3個配置し、これら円環11にてウエハ20を保持するように構成する。これにより、ウエハ20を各円環11の微小先端部分12に支えて3点で保持できるので、ウエハを変形させずに保持することができる。しかも、各円環11の真空吸引口の周面にポリイミド膜13を設けているので、その真空封止作用により吸着力が増大するとともに、その吸着によって横方向の力に対する拘束力が生じるため、ウエハ保持を強固にすることができる。

Claim (excerpt)：

基体の面上に、真空吸引口をもつ微小先端部にウエハなどの吸着物に比べて極めて薄い真空封止部材を固着した真空固定部を3個有し、この3個の真空固定部にて前記吸着物を保持するようにしたことを特徴とする真空吸着装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-205728
  
• 特開平3-145715
  
• 特開昭64-005752