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J-GLOBAL ID:200903046729117396

光触媒装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 祥泰 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000059935
Publication number (International publication number):2001246228
Application date: Mar. 06, 2000
Publication date: Sep. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 半永久的に使用することのできる光触媒装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも底板21と左右の側板22,23とを有するベースフレーム2と,ベースフレーム2の内部に配設した紫外線照射用の光源3と,光源3の前方と後方とにおいてベースフレーム2に取付けたフィルター取付け用のフィルターフレーム4と,各フィルターフレーム4に着脱可能に取付けた光触媒フィルター5とよりなる。前方と後方の光触媒フィルター5に順次被処理ガスを通過させると共に,光源3によって紫外線を照射することにより,上記被処理ガス中の有害成分を分解する。
Claim (excerpt):
少なくとも底板と左右の側板とを有するベースフレームと,該ベースフレームの内部に配設した紫外線照射用の光源と,該光源の前方と後方とにおいて上記ベースフレームに取付けたフィルター取付け用のフィルターフレームと,各フィルターフレームに着脱可能に取付けた光触媒フィルターとよりなり,上記前方と後方の光触媒フィルターに順次被処理ガスを通過させると共に,上記光源によって紫外線を照射することにより,上記被処理ガス中の有害成分を分解するよう構成してあることを特徴とする光触媒装置。
IPC (4):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 15/00 ,  B01J 35/02
FI (5):
B01J 15/00 ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 ZAB E ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 J
F-Term (42):
4D048AA08 ,  4D048AA17 ,  4D048AA19 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07Y ,  4D048BB02 ,  4D048BB11 ,  4D048BB18 ,  4D048CA01 ,  4D048CA02 ,  4D048CC04 ,  4D048CC08 ,  4D048CC09 ,  4D048DA05 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA04A ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069CD02 ,  4G069DA06 ,  4G069EA14 ,  4G069FA06 ,  4G069FB15 ,  4G069FB79 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA01 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EE15 ,  4G075EE34 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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