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J-GLOBAL ID：200903046738944661

露出制御方法及び露出制御装置

Inventor： ゴゲ パスカル ,  川原 雄三
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (2)： 西川 惠清 ,  森 厚夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002346341
Publication number (International publication number)：2004180165
Application date： Nov. 28, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【課題】処理負荷を軽減することができる露出制御方法及び露出制御装置を提供する。【解決手段】複数の画素を有する撮像素子を備え露出の調整が可能な撮像装置Cの各画素の画素値のヒストグラムを作成するヒストグラム作成手段2と、ヒストグラムの一部を除去するヒストグラム端除去手段3と、ヒストグラムの重心を算出する重心算出手段4と、予め設定された基準範囲に対するヒストグラムの重心のずれの向きと大きさとを算出する比較手段5と、基準範囲に対するヒストグラムの重心のずれの向きと大きさとに基づいてヒストグラムの重心が基準範囲内に入るように露出を制御する露出制御手段6とを備える。ヒストグラムの重心の算出に必要な演算の回数は、一画面の画素の出力の平均値の算出に必要な演算の回数よりも少なくすることができるから、一画面の画素の出力の平均値を制御に用いる場合と比べ、処理負荷を軽減することができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

複数の画素を有する撮像素子を備え露出の調整が可能な撮像装置の露出を制御する露出制御方法であって、撮像素子の画素値のヒストグラムを作成し、前記ヒストグラムの重心を算出し、予め設定された基準範囲に対する前記ヒストグラムの重心のずれの向きと大きさとに基づいて前記ヒストグラムの重心が前記基準範囲内に入るように露出を制御することを特徴とする露出制御方法。

IPC (3)：

H04N5/235 ,  H04N5/225 ,  H04N5/335

FI (3)：

H04N5/235 ,  H04N5/225 C ,  H04N5/335 Q

F-Term (9)：

5C022AA06 ,  5C022AB04 ,  5C022AB12 ,  5C022AB17 ,  5C024BX04 ,  5C024GY01 ,  5C024HX21 ,  5C024HX28 ,  5C024HX30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-273780
  
• オートアイリス装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310879   Applicant：日立電子株式会社