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J-GLOBAL ID：200903046739122452

パターンマッチング方法

Inventor： 安部 寿樹
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992198103
Publication number (International publication number)：1994160047
Application date： Jul. 24, 1992
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 認識の処理時間を短縮する。【構成】 基準パターンを間引いた粗基準パターンを、サーチエリア内にて、1画素よりも大なるスキップ幅ごとにXY方向に移動させ、この粗基準パターンと前記サーチエリアとの相関係数が最大となる座標を求めるステップと、この座標に前記基準パターンが位置する際、この基準パターンの外側に前記スキップ幅だけ広げたエリアを新たなサーチエリアとするステップと、この新たなサーチエリア内にて、前記基準パターンを1画素ごとにXY方向に移動させ、この基準パターンとこの新たなサーチエリアとの相関係数が最大となる座標を求め、この座標により被検査パターンの位置を特定するステップとを有する。

Claim (excerpt)：

被検査パターンを含むカメラ画像にサーチエリアを設定し、このサーチエリアと基準パターンとの相関係数が最大となる座標により、被検査パターンの位置を特定するにあたり、基準パターンを間引いた粗基準パターンを、前記サーチエリア内にて、1画素よりも大なるスキップ幅ごとにXY方向に移動させ、この粗基準パターンと前記サーチエリアとの相関係数が最大となる座標を求める第1ステップと、この座標に前記基準パターンが位置する際、この基準パターンの外側に前記スキップ幅だけ広げたエリアを新たなサーチエリアとする第2ステップと、この新たなサーチエリア内にて、前記基準パターンを1画素ごとにXY方向に移動させ、この基準パターンとこの新たなサーチエリアとの相関係数が最大となる座標を求め、この座標により被検査パターンの位置を特定する第3ステップとを有することを特徴とするパターンマッチング方法。

IPC (2)：

G01B 11/24 ,  G06F 15/62 405