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J-GLOBAL ID:200903046743511641

ドライフィルムレジスト

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加々美 紀雄 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001107185
Publication number (International publication number):2002303971
Application date: Apr. 05, 2001
Publication date: Oct. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高感度,高解像性を有し、レジストラインの形成性が極めて良好かつ保存安定性に優れるアルカリ現像可能のドライフィルムレジストを提供する。【解決手段】 (a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)ウレタン基を有するエチレン性不飽和化合物、(c)アクリジン誘導体、(d)ハロゲン化合物からなることを特徴とする光重合性樹脂組成物層を支持層上に形成してドライフィルムレジストとする。特に、(b)が下記式(1)に示すものであれば、高感度かつ高解像度の光重合性樹脂組成物を得ることができる。【化10】(式中のR1,R2及びR3は水素又はメチル基、Aは炭素数2〜20の二価の炭化水素基、mは2〜25の整数、nはR2がメチル基の場合には1〜25の整数であり、R2が水素の場合には1〜12の整数であってかつn/m≦3である。)
Claim (excerpt):
(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)アクリジン誘導体、(d)ハロゲン化合物を含む光重合性樹脂組成物であって、(b)エチレン性不飽和化合物として、少なくとも(b-1)ウレタン基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことを特徴とする光重合性樹脂組成物の層を、支持層上に形成してなるドライフィルムレジスト。
IPC (10):
G03F 7/004 512 ,  C08F 2/00 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/50 ,  C08F291/06 ,  C08F291/12 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  H05K 3/00
FI (10):
G03F 7/004 512 ,  C08F 2/00 C ,  C08F 2/44 Z ,  C08F 2/50 ,  C08F291/06 ,  C08F291/12 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  H05K 3/00 F
F-Term (59):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB11 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC45 ,  2H025CA14 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025FA17 ,  4J011AC04 ,  4J011CA02 ,  4J011CC10 ,  4J011PA36 ,  4J011PA43 ,  4J011PA44 ,  4J011PA45 ,  4J011PA69 ,  4J011PA70 ,  4J011PC08 ,  4J011QA03 ,  4J011QA04 ,  4J011QA13 ,  4J011QA14 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA33 ,  4J011QB15 ,  4J011QB16 ,  4J011QB24 ,  4J011QC07 ,  4J011RA03 ,  4J011RA04 ,  4J011RA12 ,  4J011SA78 ,  4J011TA10 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA53 ,  4J026BA27 ,  4J026BA28 ,  4J026BA30 ,  4J026BA50 ,  4J026DB06 ,  4J026DB24 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026GA06 ,  4J026GA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 光画像形成性組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-337103   Applicant:ニチゴー・モートン株式会社
  • 特開平4-136942
  • 特開昭63-260909

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