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J-GLOBAL ID:200903046783441778
放電プラズマ処理装置及びこれを用いた表面処理品の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998053604
Publication number (International publication number):1999244689
Application date: Mar. 05, 1998
Publication date: Sep. 14, 1999
Summary:
【要約】【課題】 処理の際のガス雰囲気を問わず、大気圧近傍の圧力下で均一な放電プラズマを発生させ、連続してプラズマ処理が行え、かつ、得られる積層体に瑕又は皺が発生することのない、放電プラズマ処理装置及びこれを用いた表面処理品の製造方法を提供する。【解決手段】 ロール状電極1と、該ロール状電極1と略等間隔で対峙された曲面を有する曲面電極2とからなり、双方の対峙された面間が放電空間3とされ、少なくとも何れか一方の電極に固体誘電体が設けられている。
Claim (excerpt):
ロール状電極と、該ロール状電極と略等間隔で対峙された曲面を有する曲面電極とからなり、双方の対峙された面間が放電空間とされ、少なくとも何れか一方の電極に固体誘電体が設けられていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。
IPC (3):
B01J 19/08
, C08J 7/00 306
, H05H 1/24
FI (3):
B01J 19/08 E
, C08J 7/00 306
, H05H 1/24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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