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J-GLOBAL ID：200903046798868751

多段電解質膜

Inventor： ラビ・プラサド ,  クリスチャン・フリードリック・ゴッツマン
Applicant, Patent owner： プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996089960
Publication number (International publication number)：1996266852
Application date： Mar. 21, 1996
Publication date： Oct. 15, 1996
Summary：

【要約】【課題】 混合ガスから酸素を分離する多段処理方法を提供する。【解決手段】 酸素と他のガスとの混合供給ガスを第1処理段の第1電解質膜によって分離された第1ガスチャンバー内へ導入する。第1処理段の陰極と陽極を電気的に付勢して第1ガスチャンバー内の供給ガスから電解質膜を通して第2チャンバーへ酸素を第1酸素フラックスで駆動する。第1処理段からの酸素減耗保持ガスを第2処理段の第3チャンバーへ送給する。第2処理段の陰極と陽極を第1処理段の電流より小さい電流で、しかし、第1処理段の電圧より高い電圧で電気的に付勢する。第2処理段から酸素減耗保持ガスを抽出し、第1処理段の第2ガスチャンバーから酸素富化透過ガスを抽出する。

Claim (excerpt)：

酸素と少くとも1種類の他のガスとの混合物を含有した供給ガス流から酸素を分離し、酸素富化透過ガスと酸素減耗保持ガスを生成する方法であって、前記供給ガスを、直列送り関係に配列された少くとも2つの処理段のうちの第1処理段の、第1電解質膜によって第2ガスチャンバーから分離された第1ガスチャンバー内へ導入し、第1電解質膜を通しての第1酸素フラックスを選択し、第1ガスチャンバーから酸素減耗保持ガスを得、第2ガスチャンバーから酸素富化透過ガスを得るために第1電解質膜に第1電流を、そして第1電解質膜の両面間に第1電圧を供給して第1ガスチャンバーから第1電解質膜を通して第2ガスチャンバーへ酸素を実質的に第1酸素フラックスで駆動し、第1処理段からの酸素減耗保持ガスを第2処理段の第2電解質膜によって第4ガスチャンバーから分離された第3ガスチャンバーへ送給し、第2電解質膜を通しての第2酸素フラックスを選択し、第3ガスチャンバーから酸素減耗保持ガスを得、第4ガスチャンバーから酸素富化透過ガスを得るために第2電解質膜に第1電流より小さい第2電流を、第2電解質膜の両面間に第1電圧より高い第2電圧を供給して酸素を実質的に第2酸素フラックスで駆動することから成る方法。

IPC (4)：

B01D 53/22 ,  B01D 61/54 510 ,  B01D 71/02 500 ,  C25B 13/00

FI (4)：

B01D 53/22 ,  B01D 61/54 510 ,  B01D 71/02 500 ,  C25B 13/00