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J-GLOBAL ID：200903046802324389

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999207958
Publication number (International publication number)：2001033971
Application date： Jul. 22, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良された、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに(B)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I)中;R1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜4個のアルキル基を表す。R2〜R7は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。但し、R6、R7のうち、少なくとも一つは水素原子以外の基である。R6とR7が結合して環を形成してもよい。m、nは、各々独立に、0又は1を表す。但し、m、nは同時に0を表すことはない。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (18)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20