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J-GLOBAL ID：200903046856832967

薄膜を有する基材の製造方法

Inventor： 塚本 遵 ,  一條 力 ,  今津 恵美
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992217701
Publication number (International publication number)：1994069121
Application date： Aug. 17, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【構成】触媒を気化し、基材表面上に吸着した後、さらにモノマガスに接触させることにより、該触媒が吸着された基材表面上に重合体薄膜を成膜することを特徴とする薄膜を有する基材の製造方法。【効果】本発明により、所望のレジストパターンが得られる二層構造レジストを有する基材の提供することができる。

Claim (excerpt)：

触媒を気化し、基材表面上に吸着した後、さらにモノマガスに接触させることにより、該触媒が吸着された基材表面上に重合体薄膜を成膜することを特徴とする薄膜を有する基材の製造方法。