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J-GLOBAL ID：200903046866020421

ガスの製造方法及び製造装置

Inventor： 傅 慶一 ,  阪井 敦 ,  趙 興哲
Applicant, Patent owner： 株式会社関西新技術研究所
Agent (1)： 細田 芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999345222
Publication number (International publication number)：2001164270
Application date： Dec. 03, 1999
Publication date： Jun. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】反応容器材質の腐食や触媒劣化が少ないマイルドな条件下で反応が行なわれ、窒素酸化物、硫黄酸化物等の有害物質の発生が抑えられた、かかる有害物質を含まない水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法及び該製造方法を実施するに好適なかかるガスの製造装置を提供すること。【解決手段】二酸化炭素の超臨界状態あるいは亜臨界状態において炭素源の少なくとも一部を水蒸気の共存下に酸化剤により燃焼させることを特徴とする、水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法並びに前記条件下に炭素源の少なくとも一部を酸化剤により燃焼させることを可能とした、該ガスの製造装置。

Claim (excerpt)：

二酸化炭素の超臨界状態あるいは亜臨界状態において炭素源の少なくとも一部を水蒸気の共存下に酸化剤により燃焼させることを特徴とする、水素及びメタンの少なくとも1つと一酸化炭素を含有するガスの製造方法。

IPC (7)：

C10J 3/46 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 ,  C01B 3/36 ,  C01B 31/18 ,  C10J 3/00 ,  C10J 3/48

FI (7)：

C10J 3/46 Z ,  C01B 3/36 ,  C01B 31/18 A ,  C10J 3/00 A ,  C10J 3/48 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 304 H

F-Term (24)：

4D004AA02 ,  4D004AA07 ,  4D004AA12 ,  4D004AA31 ,  4D004BA03 ,  4D004CA04 ,  4D004CA28 ,  4D004CA32 ,  4D004CA34 ,  4D004CA36 ,  4D004CA39 ,  4D004CB44 ,  4D004CC01 ,  4D004CC02 ,  4G040EA04 ,  4G040EA06 ,  4G040EA07 ,  4G040EB42 ,  4G046JA02 ,  4G046JA04 ,  4G046JB02 ,  4G046JB04 ,  4G046JC05 ,  4G046JC06