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J-GLOBAL ID:200903046870611884

一酸化炭素選択酸化触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004304021
Publication number (International publication number):2006116372
Application date: Oct. 19, 2004
Publication date: May. 11, 2006
Summary:
【課題】 低温度域での高い触媒活性と、温度変化に対する高い安定性を併せ持ち、かつ組成や合成法に融通を持たせ、容易に利用できる触媒を一酸化炭素選択酸化触媒として提供する。【解決手段】 化学式A2Cu1-yByO4-δ(式中のAはランタノイドよりなる群から選ばれた、少なくとも1種類以上の元素を示し、BはCr、Mn、Fe、Coよりなる群から選ばれた少なくとも1種類以上の元素を示しており、yは0≦y≦0.2であり、δは酸素欠損量または酸素過剰量を表す。)で表され、単相の層状ペロブスカイト構造を有する複合酸化物を用いてなることを特徴とする、炭化水素、酸素および水蒸気を含むガスを改質して得られた水素富化ガス中に残存する一酸化炭素を、少なくとも選択酸化によって改質する、一酸化炭素選択酸化触媒。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
化学式A2Cu1-yByO4-δ(式中のAはランタノイドよりなる群から選ばれた、少なくとも1種類以上の元素を示し、BはCr、Mn、Fe、Coよりなる群から選ばれた少なくとも1種類以上の元素を示しており、yは0≦y≦0.2であり、δは酸素欠損量または酸素過剰量を表す。)で表され、単相の層状ペロブスカイト構造を有する複合酸化物を用いてなることを特徴とする、炭化水素、酸素および水蒸気を含むガスを改質して得られた水素富化ガス中に残存する一酸化炭素を、少なくとも選択酸化によって改質する、一酸化炭素選択酸化触媒。
IPC (3):
B01J 23/89 ,  C01B 3/40 ,  H01M 8/06
FI (3):
B01J23/89 M ,  C01B3/40 ,  H01M8/06 G
F-Term (70):
4G069AA03 ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC41A ,  4G069BC42A ,  4G069BC42B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC44A ,  4G069BC44B ,  4G069BC58A ,  4G069BC62A ,  4G069BC62B ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC69A ,  4G069BC75B ,  4G069BD03A ,  4G069CC17 ,  4G069DA05 ,  4G069EA01Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22Y ,  4G069EC23 ,  4G069FB07 ,  4G069FB30 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB36 ,  4G169AA03 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC41A ,  4G169BC42A ,  4G169BC42B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169BC58A ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC69A ,  4G169BC75B ,  4G169BD03A ,  4G169CC17 ,  4G169DA05 ,  4G169EA01Y ,  4G169EB18Y ,  4G169EC22Y ,  4G169EC23 ,  4G169FB07 ,  4G169FB30 ,  5H026AA06 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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