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J-GLOBAL ID：200903046902317835
液晶表示基板の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
秋田 収喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993131605
Publication number (International publication number)：1994342809
Application date： Jun. 02, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】 製造が完了したTFTにおいて、フレークあるいは異物が原因する断線、ショート、あるいは点欠陥等の弊害を完全にかつ信頼性よく防ぐ。【構成】 a-Siを半導体層とするTFTを備える液晶表示基板の製造方法において、該半導体層を形成した後に、該半導体層を有機アルカリを含む洗浄液で洗浄する。
Claim (excerpt)：
a-Siを半導体層とするTFTを備える液晶表示基板の製造方法において、該半導体層を形成した後に、該半導体層を有機アルカリを含む洗浄液で洗浄することを特徴とする液晶表示基板の製造方法。
IPC (3)：
H01L 21/336
, H01L 29/784
, G02F 1/136 500
