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J-GLOBAL ID：200903046917069099

皮膚の状態を手入れするためのオキサ・アシッドと関連化合物

Inventor： ドミトリー プチェリンセブ ,  ネイル スカンカレーラ ,  ロバート カラフスキー
Applicant, Patent owner： エイボン プロダクツ インコーポレイテッド
Agent (1)： 河野 昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996346482
Publication number (International publication number)：1998072334
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：

【要約】ここに記述されたものは、皮膚の状態を手入れするための活性主剤として、下記に図示した化学式(I)【化1】(式中、R4 は(CR5 R6 -CR7 R8 X1 )n -CR9 R10 R11 で示され、nは1から18までの整数であり;R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10 およびR11 は独立に、水素原子またはアルキル、アルケニル、オキサ-アルキル、アラルキルおよびアリル基からなる非水素原子の置換基であり;X、X1 、YおよびZはそれぞれ独立に、O、NHまたはSであり、より好ましくはそのなかのX、X1 、YおよびZは酸素原子でかつ、R1 、R2、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 、R10 およびR11 は水素原子である。)の化合物とこれらの化合物を含有した組成物の使用、およびこれらの化合物と組成物を用いて皮膚の状態を手入する方法に関するものである。

Claim (excerpt)：

適当な局処塗布賦形剤と化学式(I)【化1】(式中、R4は(CR5R6-CR7R8X1)n-CR9R10R11で示され;nは1から18までの整数であり;R1 、R2 、R3 、R4 、 R5 、 R6 、 R7 、R8、R9 、R10およびR11は独立に、水素原子または非水素原子の置換基であり;X1 、YおよびZはそれぞれ独立に、O、NHまたはSである。)の化合物から構成されることを特徴とする局所塗布組成物。

IPC (5)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 31/20 ADA ,  A61K 31/23 ,  A61K 7/06

FI (7)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/00 Y ,  A61K 31/20 ADA ,  A61K 31/23 ,  A61K 7/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 皮膚症状処置用のオキサ酸および関連化合物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-500710   Applicant：エイヴォンプロダクツ,インク.
• 特開昭64-029308