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J-GLOBAL ID:200903046924661050
軟磁性材料及びこれを用いた磁気ヘッド
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994218542
Publication number (International publication number):1996083712
Application date: Sep. 13, 1994
Publication date: Mar. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 非磁性基板に形成された傾斜面上に軟磁性薄膜が成膜されて成る軟磁性材料の軟磁気特性の向上、及び軟磁性材料を用いた磁気ヘッドの記録再生特性の向上を目的とする。【構成】 非磁性基板に形成された傾斜面上に、Fe、Al及びSiから成る軟磁性薄膜を成膜して成る軟磁性材料において、非磁性基板と軟磁性薄膜の間に、Ta、Nb、Zr、Ti、Al、Cr、Mo、W、Pt、Au、Pd、Ag、Vから選ばれる1種以上の金属から成る下地膜を配する。上記軟磁性材料は、非磁性基板と下地膜の間に、SiO2 、Al2O3、ZrO2 、Ta2O5、MgOから選ばれる少なくとも1種から成る酸化物絶縁膜を配したり、軟磁性薄膜を中間絶縁膜を介して積層してもよい。そして、このような軟磁性材料によって、磁気ヘッドの磁気回路の少なくとも一部を形成する。
Claim (excerpt):
Fe、Al及びSiから成る軟磁性薄膜が、非磁性基板に形成された傾斜面上に、Ta、Nb、Zr、Ti、Al、Cr、Mo、W、Pt、Au、Pd、Ag、Vから選ばれる1種以上の金属から成る下地膜を介して成膜されていることを特徴とする軟磁性材料。
IPC (6):
H01F 10/08
, C22C 38/00 303
, C22C 38/06
, C23C 14/14
, C23C 14/18
, G11B 5/31
Patent cited by the Patent: