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J-GLOBAL ID:200903046971415024

ICP-OES及びICP-MS誘導電流

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 河宮 治 ,  石野 正弘
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2005508319
Publication number (International publication number):2006516325
Application date: Dec. 11, 2003
Publication date: Jun. 29, 2006
Summary:
サンプルを分光法で分析する方法においては、プラズマが生成される。磁気双極子によって磁場が生成され、ここでプラズマは磁場内に閉じ込められる。サンプル原子がプラズマ内に導入され、サンプルの励起された原子がプラズマ内に閉じ込められる。励起されたサンプル原子の質量体電荷比又はスペクトル成分が分析される。分光分析システムにおいては、磁気双極子は関連した磁場をもつ。プラズマは磁場内に閉じ込められ、励起された原子のサンプルがプラズマ中に導入される。分光計は、質量対電荷比を得るために、又はそれらのスペクトル成分を得るために、励起された原子を分析する。
Claim (excerpt):
材料サンプルを分光法で分析する方法であって、 プラズマを生成することと、 ループ電流を生成して磁場を生成し、該磁場中にプラズマを閉じ込めることと、 材料サンプルの原子をプラズマ中に導入し、励起されたサンプルの原子をプラズマ中に閉じ込めることと、 励起されたサンプルの原子の特性を分析することとを含む方法。
IPC (1):
G01N 21/73
FI (1):
G01N21/73
F-Term (11):
2G041CA01 ,  2G041DA14 ,  2G041GA03 ,  2G043AA01 ,  2G043CA03 ,  2G043EA08 ,  2G043GA06 ,  2G043GA11 ,  2G043GB10 ,  2G043GB13 ,  2G043JA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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