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J-GLOBAL ID：200903046975683287

現像残滓の超音波洗浄方法

Inventor： 寺野 喜弘 ,  中山 直美 ,  須井 淳
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社 ,  ラップマスターエスエフティ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066445
Publication number (International publication number)：1997010714
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Jan. 14, 1997
Summary：

【要約】【目的】ガラス板や金属板等の基板面に塗布された感光材の現像処理において、処理後に基板面に残留する残滓を残滓残りなく容易に除去することにある。【構成】ガラス基板1等の基板面に付着する残滓3個所に水若しくは適宜溶媒を用いた仲介液21を介して超音波発振ホーン先端部11を接近させ、付着する前記残滓3を超音波振動により除去する現像残滓の超音波洗浄方法。

Claim (excerpt)：

ガラス基板等の基板に付着する残滓付着個所に、水、若しくは適宜溶媒を用いた仲介液を介して超音波発振ホーン先端部を接近させ、付着する前記残滓を超音波振動により除去することを特徴とする現像残滓の超音波洗浄方法。

IPC (2)：

B08B 3/12 ,  G03F 7/40 521

FI (2)：

B08B 3/12 Z ,  G03F 7/40 521