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J-GLOBAL ID：200903047004284242

ロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置

Inventor： 越前 裕 ,  藤岡 靖 ,  酒井 明 ,  青池 達行 ,  吉野 豪人 ,  杉山 秀一郎 ,  金井 正博
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140276
Publication number (International publication number)：1994349745
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 安定な放電を維持しながら、大面積にわたって高品位且つ均質な半導体膜を、高速で形成可能なロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置を提供する。【構成】 真空容器に内蔵された角柱状の成膜室102を備えるロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置であって、成膜室に向かって方形導波管104、円形導波管105、誘電体円板の順に取り付けられたマイクロ波アプリケーター103と、該アプリケータと成膜室の1側面との間に設けられ、誘電体円板の成膜室側の面上に、その端部がほぼ密着し且つ方形導波管の長辺側の面に平行に配置された複数の金属板と、成膜室の上蓋を構成する帯状基板と、成膜室の底面または側面に列状に設けられたガスノズルと、成膜室の側面または底面に列状に設けられた排気孔と、から構成される。

Claim (excerpt)：

真空容器に内蔵された角柱状の成膜室を備えるロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置であって、前記成膜室に向かって方形導波管、円形導波管、誘電体円板の順に取り付けられたマイクロ波アプリケーターと、該アプリケーターと前記成膜室の1側面との間に設けられ、前記誘電体円板の前記成膜室側の面上に、その端部がほぼ密着し且つ前記方形導波管の長辺側の面に平行に配置された複数の金属板と、前記成膜室の上蓋を構成する帯状基板と、前記成膜室の底面または側面に列状に設けられたガスノズルと、成膜室の側面または底面に列状に設けられた排気孔と、から少なくとも構成されることを特徴とするロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  C23C 16/54